PRODUZIONE IN MASSA DI SENSORI DI GAS MEDIANTE DEPOSIZIONE PVD O VLS DI NANOFILI DI OSSIDI METALLICI SU SUBSTRATI ISOLANTI E SENSORI COSÌ OTTENUTI

Un metodo per la produzione di massa di sensori gas, comprendente le fasi di: predisposizione di almeno un substrato di base isolante e realizzazione sull’almeno un substrato di una pluralità di sensori gas. L’almeno un substrato di base è costituito da una matrice unitaria di almeno 50 elementi substrato uguali e separati fra loro. La fase di realizzazione dei sensori gas include le fasi di: deposizione sull’almeno un substrato di base di un catalizzatore mediante sputtering, in modo che ogni elemento substrato includa almeno uno strato di catalizzatore; realizzazione in corrispondenza di ognuno degli elementi substrato di un elemento semiconduttore sensibile mediante deposizione PVD o VLS di nanofili di almeno un ossido metallico sull’almeno un substrato di base; separazione reciproca degli elementi substrato che includono l’elemento semiconduttore sensibile, in modo da ottenere i sensori gas.